如遇徕卡EM RES102，除了样品旋转外，还可以使用振荡运动。这样，摆动的零点和角度都可以调整。零点的设置应使离子束的入射相对于粘接是垂直的。当样品处于振荡状态且铣削角度为平时，低铣削速率的层保护了高铣削速率的层;这导致了整个样品的均匀铣削。
制备条件
机械抛光用金刚石纸双面抛光:15µm、9µm、6µm、3µm、1µm、0.5µm，直至最终样品厚度为60µm。
离子铣
| 样品持有人: | Quick-clamp-holder |
| 加速电压: | 7 kV |
| 铣削角度: | 4° |
| 样本运动: | 振荡(±45°) |
最后一步
| 样品持有人: | Quick-clamp-holder |
| 加速电压: | 2千伏 |
| 铣削角度: | ±4°(与单离子枪交替) |
| 样本运动: | 振荡(±45°) |
结果
尽管溅射速率相差很大，但多层体系的制备需要谨慎，可以均匀地变薄。所有元件都是均匀的电子透明，长度为100µm。可以用高分辨率检查各层及其界面。
