2011年8月新徕卡EM TIC 3X三离子束切割机推出,取代徕卡EM TIC020!
徕卡EM TIC020三离子束铣床准备的斜率削减允许精确和高效场地特定样品制备为扫描电镜分析.
获得高质量截面从几乎任何材料。样品支架允许的样品尺寸可达50x50x10毫米。需要最少的机械准备。该系统的特点是三个离子束与三轴台和观察显微镜。
仅供研究用途
2011年8月新徕卡EM TIC 3X三离子束切割机推出,取代徕卡EM TIC020!
徕卡EM TIC020三离子束铣床准备的斜率削减允许精确和高效场地特定样品制备为扫描电镜分析.
获得高质量截面从几乎任何材料。样品支架允许的样品尺寸可达50x50x10毫米。需要最少的机械准备。该系统的特点是三个离子束与三轴台和观察显微镜。