徕卡EM Res102

为了支持各种应用可能性，Leica EM Res102可以配备各种样品架，用于制备TEM，SEM和LM样本。加载系统可确保快速示例交换的高样本吞吐量。

用于在环境温度或LN的清洁，抛光和对比增强SEM和LM样本的清洁，抛光和对比度₂冷却。SEM保持器允许准备最多25mm的样品尺寸。随机交付适配器，可用3.1毫米的直径销夹紧商业可用SEM存根。

斜坡刀架用于生产横截面（90°）和成角度部分（35°），用于垂直结构样品的SEM调查。标本可以在环境温度或LN下制备₂冷却。

SEM夹持器保持小样品，最大尺寸为5（h）×7（w）×2（d）mm。该支架可以轻松直接转移到SEM而不删除样品。

用于单侧和双面低角度铣削的样品架（快速夹紧架）下降至4°。

冷却支架，用于制备温度敏感样品与LN2冷却装置的组合。

清洁支架用于减少FIB样品的杂化层。