抽象的

溶剂浸没印记光刻

高性能,半自动程序

我们在我们最近的关于溶剂浸没印记光刻(SIIL)的根本报告,并描述了用于原型化聚合物微流体和Optof流体的半自动和高性能程序。SIIL程序通过经济高效(〜200美元)和易于组装的设备来最大限度地减少手动干预。我们分析了专门针对聚(甲基丙烯酸甲酯)微系统的程序的性能,并在不到5分钟内报告可重复的聚合物压印,键合和3D官能化,下降到8 μ.M分辨率和1:1宽高比。与商业方法相比,改性的SIIL手术能够降低大量成本,降低压印力要求100倍,以及粘合强度的提高超过10倍。我们将这些优点归因于定向聚合物溶解,其在聚合物 - 溶剂界面处严格定位,如SIIL唯一的。所描述的过程开启了新的桌面原型机会,特别是对于执行Live-Cell成像,流过催化和片上气体检测的非专家用户。

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Nemati Sh,Liyu Da,Canul AJ&Vasdekis AE:

溶剂浸入印记光刻:高性能,半自动程序

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