より早く検出することで,より早くアクション
マ邮箱クロエレクトロニクスおよび半導体製造に最適な検査システムDM3 XL
マイクロエレクトロニクスおよび半導体産業製造において,ルーチンの検査,工程管理,欠陥解析は,さらにスピーディーに行うことが求められています。欠陥箇所を早く検出することで,次の対応をより早く実施することができます。
30%広い視野で
DM3 XL検査システムはユニークなマクロ対物レンズの採用で,これまでより30%大きな視野で観察できます。
マイクロエレクトロニクスおよび半導体産業製造において,ルーチンの検査,工程管理,欠陥解析は,さらにスピーディーに行うことが求められています。欠陥箇所を早く検出することで,次の対応をより早く実施することができます。
30%広い視野で
DM3 XL検査システムはユニークなマクロ対物レンズの採用で,これまでより30%大きな視野で観察できます。
Dm3 xlはコストパフォマンスに優れています。
飛躍的に向上した感度と解像度に驚かれることでしょう。
対物レンズのラ邮箱ンナップに邮箱邮箱:徕卡光学中心.
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