碳，电子束和溅射涂层-相信精度

Sistema di rivestimto a vuoto spinto徕卡EM ACE600

通过TEM和FE-SEM对其进行分析。

L'unità徕卡EM ACE600 è il一个vuoto spinto电影制作系统对于金属导体和碳材料的分析，我们有多种想法，对于FE-SEM和TEM的应用，我们有丰富的想法。

Questo我想买一辆新车può essere configurato per le guenti metodiche: polverizzione, vaporazione di fibre di carbonio, vaporazione di astoncini di carbonio, vaporazione da cannone electrontronico e scarica a luminescenza。

我有一个很好的朋友徕卡EM VCT在徕卡EM ACE600上进行分析，è对显微镜电子扫描(SEM)分析的理想方法。

仅供研究用途

广泛应用的高真空镀膜系统

配备一个可配置的金属工艺室，EM ACE600溅射镀膜机是灵活的，可以适应广泛的应用。通过在一个单一的准备过程中运行两个不同的源来达到您的工作流程目标并满足您的实验室需求，甚至配置EM ACE600用于高级低温工作流程。

你是否需要…

  • 对平面或结构不导电的标本进行高分辨率成像
  • 增强纳米尺度结构的对比度，如蛋白质或DNA链
  • 为透射电子显微镜的栅格或
  • 为敏感样品提供保护层
  • 扩展系统用于低温应用

用EM ACE600碳和溅射镀膜器就能覆盖了

EM ACE600碳，电子束和溅射镀膜机与低温转移坞

可复制的高质量薄膜与溅射涂层

使用EM ACE600高真空镀膜系统生产高质量的溅射镀膜。满足您的先进涂层需求的合适条件，并实现可重复的结果，感谢自动化，基于收据的溅射涂层过程。

可进行高达200kX及以上的高倍扫描电镜分析，具有<2x10-6 mbar的优良基础真空和一系列溅射靶的精细平衡工艺参数。根据样品形貌的需要调整样品距离和涂层角度。

为了进一步提高涂层效果，可以使用迈斯纳阱将真空增加到10-7毫巴，然后尝试溅射靶或对氧敏感的样品材料。

不同材料的2nm厚细晶溅射涂层沉积在SiOx基体上，放大倍数为200kX。

具有碳涂层的可复制高质量薄膜

使用EM ACE600，您可以通过使用碳丝涂层、碳棒涂层或电子束蒸发生产高质量的碳薄膜。

自那以后，碳丝蒸发已成为一种广泛应用的方法

188金宝搏的网址徕卡微系统公司开发了一种独特的自适应脉冲方法，并将其应用到EM ACE600中。它可以产生精确、坚固和亚纳米厚度的非晶薄膜，同时最大限度地减少对样品的热影响。无论您是需要纳米薄、强、清洁的TEM支撑层、弥漫性(保护)涂层，还是大型均匀碳层，碳线都是正确的选择。

对于专用的应用，例如旋转阴影，您可以使用电子束蒸发器。它的光束发散度小，是阴影涂层增强纳米结构边缘对比度的理想材料。

1 - 5nm厚碳膜的精密碳沉积

根据您的需要调整EM ACE600

由于EM ACE600的大型可配置金属工艺室，在单一涂布仪中运行多个过程而不破坏真空。同时，将溅射头与先进的碳丝蒸发器结合，或选择两个溅射源，使多层金属涂层在单一的制备过程中。

  • 通过优化的双源概念(两个角度端口和一个旋转级)，在整个100mm级上生产均匀分布的薄膜
  • 选择坚固的碳丝，电子束，和溅射镀膜源
  • 装备你的EM ACE600辉光放电溅射
  • 可随时在现场升级

ACE600可配置两个源的端口。选择有:1-碳丝蒸发| 2-溅射| 3-碳棒蒸发| 4-电子束蒸发

专注于准备过程中的关键部分

使用EM ACE600碳溅射涂布机，只需按下一个按钮即可完成常规样品制备。简单可靠的工作流程和便捷的标准操作程序，让您专注于EM样品制备的关键部分。你可以集中精力优化你的工作流程，花更少的时间学习如何操作系统或培训其他人如何使用它。

  • 通过前门安全装卸敏感样品
  • 基于工作流的用户界面和对相关参数的快速访问为该方法提供了指导
  • 重量轻，强大的来源，方便日常处理

EM ACE600触摸屏操作，基于工作流的用户界面

扩展到Cryo工作流

打开您的实验室，以全方位的电子显微镜实验，涂层你的样品在低温条件下。EM ACE600碳和溅射涂布机支持用于研究的样品制备，如生物样品在其天然和水合状态下的结构分析，通过进行冷冻断裂和低温涂层，然后在EM VCT500转移系统的帮助下将样品低温转移到SEM。

EM ACE600提供:

  • 用于冷冻样品转移的接口
  • 在低温条件下涂层的低温阶段
  • 一种基本的断裂装置制造方法及图纸

EM ACE600配备EM VCT500低温传输系统

选择最佳配置

通过配置您的EM ACE600碳和溅射镀膜机，满足您的日常实验室工作的需要。

可从多种样品架和样品台中进行选择，如具有最多3个机动轴的3轴样品台或专用冷却台。

快速交换的舞台盘子使您的EM ACE600一个多用途的工具。

1:电动3轴级| 2:旋转阴影(LARS-)级| 3:旋转“手动”级| 4:冷冻级

超薄碳膜

碳涂层在电子显微镜中有多种应用。它需要导电，但对电子束来说是不可见的，并且不应该有颗粒结构。

由EM ACE600碳线通过自适应脉冲产生的薄膜厚度精确、坚固、导电，甚至可以烘烤以进一步减少污染。最终，这些电影提供：

  • 电子透明度高
  • 足以承受电子轰击的强度
  • 均匀的厚度，对分析研究、定量成像或电子断层摄影至关重要

A:常规碳膜(15 nm碳);B:超薄碳膜(3 nm)。易于观察CdSe量子板的晶格。图片由Eva Bladt和Sara Bals (EMAT，比利时安特卫普大学)获得。Frederic Leroux和Jan de Weert提供。样品提供:乌得勒支大学德拜纳米材料科学研究所Daniel Vanmaekelbergh

旋转阴影-使纳米级结构可见

将你的EM ACE600配置为专用的低角度旋转阴影(LARS)设置，这样你就可以在TEM中成像纳米级结构，如蛋白质或DNA链。EM ACE600电子束源与机动的LARS级结合了定向、低热冲击、薄膜沉积和优化的掠入射沉积级几何形状。一旦DNA链以一个小角度被一层细粒铂层阴影包裹，碳层被添加到稳定脆弱的结构中，以便在TEM中分析。

利用EM ACE600电子束涂布机的低角度旋转阴影技术，获得了出芽酵母s.c reevisiae的DNA复制叉的TEM照片

为您的实验选择正确的工作流程

EM ACE600帮助您在进行材料科学和生物实验时获得高质量的结果。工作流程包括标准的TEM和SEM样品制备，切片断层扫描3D工作流程，FIB SEM，等等。有关的工作流解决方案的更多信息

  • 生命科学研究，下载工作流程手册
  • 材料科学研究，下载工作流程手册

SEM标准工作流程

用标准的SEM工作流程研究化学固定样品的表面结构。用EM TP组织处理器准备样品，然后用EM CPD300将其干燥。下一步是用EM ACE200或EM ACE600涂层样品，然后在SEM中成像。

（1） 自动组织处理（EM TP）|（2）自动临界点干燥（EM CPD300）|（3）碳和/或溅射涂层（EM ACE200/EM ACE600）|（4）扫描电镜图像分析

SEM/LM固态制备-宽离子束横截面

该技术最常用于固态SEM样品，但也可用于LM研究。当样品有一定的目标暴露观察时，需要对样品进行良好的切割，得到感兴趣部分的内部结构。然后，对于不导电的样品，需要涂覆以使样品适合SEM观察。

(1) -(3)横截面、靶材制备、研磨(EM TXP) |(4) &(5)离子束铣削和高端抛光(EM TIX 3X或EM RES102) |(6)涂层(EM ACE200 / EM ACE600) | (7) SEM分析

超低温扫描电镜样品制备及转移宽离子束横切

这个低温转移工作流程用于高压冷冻样品，包括硬的和脆的材料(例如粘土和石英)。在整个制备过程中，样品必须保持在-150°C的温度下，从高压冷冻，使用冷冻锯进行机械预处理，然后离子束铣削步骤，最后将其转移到冷冻扫描电镜。

(1)高压冻结(EM ICE) |(2)-(3)横截面切割(EM VCM) |(4)转移(EM VCT500) |(5)离子束铣削(EM TIC 3X) |(6)转移(EM VCT500) |(7)涂层(EM ACE600) |(8)冷冻扫描电镜分析

SEM / LM固态制备-宽离子束抛光

该技术用于大型固态SEM或LM样品。当必须以最高质量水平(例如EBSD)对大面积(几平方厘米)的样品进行研究时，样品采用机械预处理(镜面抛光)，最后采用离子束抛光法进行制备。

(1)和(2)表面抛光(EM TXP) |(3)和(4)离子束铣削和高端抛光(EM TIC 3X或EM RES102) |(5)涂层(EM ACE200 / EM ACE600) | (6) SEM分析

切片层析三维工作流程

通过这个工作流程，您可以在一个定义的3D体积内研究生物结构的组织和相互作用。第一步是在室温下处理样品，然后在透射电镜网格上进行半厚连续切片。染色步骤完成后，进行TEM成像。

(1)自动组织处理(EM TP) |(2)修剪(EM TRIM2) |(3)连续切片(EM UC7) |(4)染色(EM AC20) | (5) TEM图像分析

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