マイクロエレクトロニクスおよび半導体製造において,ルーチンの検査,工程管理,欠陥解析はよりスピーディーにかつ正確に行うことが求められています。ライカマイクロシステムズは,ルーチン検査用に最適なDM3 XL検査システムを開発しました。
DM3 XL検査システムは,ライカのユニークなマクロ対物レンズを取り付けて,最大視野径35.7毫米の広い視野を一度に観察できます。従来の対物レンズよりも30%大きな視野で観察できますので,オペレーターは最大6インチのウェハを容易に隅々まで観察し,迅速に欠陥箇所を検出できます。ウェハの周縁部または中心部の加工不良や膜厚の均一性などを視覚化できます。
DM3 XLシステムは各種試料サイズ向けに,金属製インサート,ウェハホルダーやマスクホルダーなど,様々なステージインサートをラインナップしています。オペレーターは150 mm x 150 mmのステージの粗動または微動調整を用いて,試料および観察領域を簡単,すばやく位置決めすることができます。
新製品開発にあたり,ライカマイクロシステムズは使い勝手に優れた操作コンセプトを追及しました。顕微鏡操作部にアプローチしやすいデザインで,オペレーターは試料に視線を置いたまま,観察法や照明を切り替えることができ,観察に集中できます。照明には领导を採用,内蔵し一定の色温度を提供,光量を変えても色味が変わらず,再現性の高いカラーイメージングを実現します。
顕微鏡カメラや画像解析用ソフトウェアを選択して,簡単にイメージングシステムにもアップグレードでき,高品質の解析と記録を行えます。
詳細情報についてはDM3 XL検査システムの製品ページをご覧ください。
